JN-CLD系列真空磁控濺射鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于家電電器,鐘表,燈具,工藝美術(shù)品,玩具,車燈反光罩,手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表,塑料,玻璃,陶瓷,磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象,早在1842年Grove在實(shí)驗(yàn)室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場(chǎng),磁場(chǎng)為曲線形,均勻電場(chǎng)和對(duì)數(shù)電場(chǎng)則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場(chǎng)作用下,加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,若電子具有足夠的能量（約為30ev）時(shí),則電離出Ar 并產(chǎn)生電子,電子飛向基片,Ar 在電場(chǎng)作用下,加速飛向陰較（濺射靶）并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。

本公司的磁控濺射鍍?cè)O(shè)備有以下幾大特點(diǎn)：1） 膜厚可控性和重復(fù)性好,能夠可靠的鍍制欲定厚度的薄膜,并且,濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；2）薄膜與基片的附著力強(qiáng),并且部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴(kuò)散層；3）可以制備特殊材料的薄膜,可以制膜層可以使用不同的材料同時(shí)濺射制備混合膜,化合膜,還可濺射成TiN仿金膜；4）膜層純度高,濺射膜層中不會(huì)混入坩鍋加熱器材料的成份。

本公司擁有較完善的售后服務(wù)體系,使用本公司設(shè)備可免費(fèi)提供技術(shù)工,操作工培訓(xùn)和較先進(jìn)的生產(chǎn)工藝。